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別館(相模)

別館

露光機

ICの回路パターンをウェハへ焼き付ける リソグラフィー工程の要となる装置です。

  • ArF露光装置

塗布現像装置

レジストをシリコンウェハに塗りつけ、露光後に回路パターンを浮かび上がらせる装置です。

  • 塗布現像装置

SEM

超微細なナノの世界を観察するために電子顕微鏡を使い研究しています。

  • 測長 SEM
  • 断面 SEM

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