• 創業

• 1960年〜

• 1990年〜

• 100年企業に向けて

• 創業

  受け継がれてきたDNA
  「ピュアケミカル技術」と「技術立社」の原点

  1936年 4月

  「高純度カ性カリ（水酸化カリウム）」の精製に成功し、
  「東京応化研究所」を設立

  創業者である向井繁正（1898-1992）が、苦心の末に水銀法電解による高純度カ性カリの国産化を実現（1934）。「困難で、他社が尻込みをするような技術でも、社会に役立つのであれば挑戦したい」「また、そこにこそ私たちの存在価値がある」という強い想いとともに、東京応化研究所を設立しました。

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    創業者　向井繁正

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    高純度カ性カリ

  1940年10月

  「東京応化工業株式会社」が誕生

  創業者の座右の銘である「自作自受」は、「自分で作れ。成功し利益を得ても、あるいは失敗して負債を抱えても、いずれにしても結果は自らの身に返ってくる」という意味。以来、TOKは「技術立社」を旨とし、様々な「国内・世界初」「国内・世界最高レベル」の技術を開発してきました。

  

  座右の銘　「自作自受」

  1946年

  「精製カ性カリ」の生産で戦後復興に貢献

  炭鉱用キャップライトに使用されていた硫酸電池に代わる、より安全で携帯性の高いアルカリ蓄電池の電解液として注文が殺到。命がけで戦後復興に貢献する炭鉱労働者のリスクや負担を軽減する役割を果たしました。

  

  炭鉱用キャップライトとアルカリ蓄電池

  

  石炭増産を柱とする政府の傾斜生産方式により、不足しがちな電力供給を優先的に受けつつ生産

  

  高価な輸入品を上回る評価を獲得
  （『日刊工業新聞』1964年2月10日付）

  1955年 5月

  オーカシール（ケイ酸カリウム）で
  テレビの爆発的な普及に貢献

  日本電機機械振興協会からの要請に応える形で、ブラウン管テレビの製造に欠かせないケイ酸カリウムの国産化を実現。輸入品からの切り替えで、1953年の放送開始より普及のカギとされていたテレビのコストダウンに大きく貢献しました。その後、上皇上皇后両陛下のご成婚の中継（1959）等でテレビの普及が加速。オーカシールの開発は当社に大きな収益とともに、電機業界とのつながりをもたらす結果となりました。

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    オーカシール

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    街頭テレビに集まる人々

  「特徴ある、他社が容易にまねのできないものをつくる」
  「自分も他人のまねをしない」
  「高純度の製品を主体とする」
  「高い技術力を育成する」

  という創業当時の基本理念は、
  このような実績に裏付けされた自信や自負とともに、
  その後一貫して「技術立社」の道を歩み、数多くの「国内・世界初」「国内・世界トップレベル」の
  製品群を生み出していく、“TOKのものづくり文化”の礎として受け継がれていきます。

  「1960年～」に続く

• 1960〜

  半導体産業の急伸とともに培われた
  ニッチトップ技術力の萌芽

  1960年代の国内「電気メーカー」
  米国から技術を導入し、日本は世界最大のトランジスタ(*)生産国に。中盤頃にはIC(*)の量産体制を確立。カラーＴＶや電卓、電子時計など電子機器が急速に普及した。※トランジスタ：電気の流れをコントロールする部品のこと。※IC：回路を集積した電子部品のこと。

  1962年

  「TPR」（スルホールめっき用フォトレジスト）
  先行開発で時代が追いついた、当社初のフォトレジストを開発

  国内唯一の桂皮酸メーカーとしての知見を活かし、ポリ桂皮酸ビニルを原料とする、コストダウンが可能なフォトレジストの先行開発に着手。その技術は、やがて（ラジオやテレビ、電卓のIC化という）時代が追いつく形で、プリント基板の小型・精細化を実現する電子材料として結実しました。

  

  TPR

  1968年

  「OMR-81」（半導体用ネガ型フォトレジスト）
  半導体業界を驚かせた製品で、本格的フォトレジストメーカーへ

  米国でのトレンドをいち早く捉え、既に確立していた環化ゴム系フォトレジストの基礎技術を半導体用に開発。ほぼ新顔の企業が開発した「密着性」に優れる製品に驚く大手半導体メーカーの採用が次々と決まり専用工場まで建設。「フォトレジストの東京応化」が半導体産業に定着しました。

  

  OMR-81

  1970年代の国内「半導体産業」
  米国からの積極的な技術導入を進め、74年頃にはローパワーCMOS LSIで世界No.1のシェアを獲得するなど着実に成長。中盤以降は生産自動化体制を推進。輸入品から国産半導体への切替えが進み、日米半導体摩擦が勃発。

  1971年

  OPM（国産初プラズマ乾式低温灰化剝離装置）の製造を開始

  製品の性能を最大限に引き出すハード&ソフトを提供する「M&E（Materials & Equipment）」をコンセプトに半導体装置事業を開始。

  

  プラズマ乾式低温灰化
  剥離装置OPM

  OMR-83（環境対応型合成ゴム系フォトレジスト）の製造を開始

  輸入品を駆逐し、IC製造の主流フォトレジストに。

  1972年
  OFPR-2（半導体用ポジ型フォトレジスト）の製造を開始

  IC製造用で国産初のポジ型フォトレジストとして上市。

  

  ノンメタル
  現像液NMD-3

  1975年
  NMD-3（高精度のノンメタル現像液）を開発

  同製品の現像液濃度が世界標準濃度に。

  1980年代の国内「半導体産業」
  CDプレーヤー、ファミコンなどの新たな民生機器の誕生、パソコンの普及等で日本製DRAMが世界市場を席巻。日米半導体摩擦が勃発。

  1985年
  TSMR-8800（高解像ポジ型フォトレジスト）の製造を開始

  解像度1.0μｍ以下を実現。

  1972年3月
  宇宙開発に貢献した「OSR」
  今に語り継がれる傑作フォトレジストの開発

  高感度かつ均一な溶解性を有する新材料を開発した繊維高分子材料研究所（現・産業技術総合研究所）が、フォトレジストのトップメーカーとなっていた当社に実用化・商品化・量産化を委託。半導体用ネガ型フォトレジストとして開発された「OSR」は当時としては驚異的な解像度1μmを記録し、この材料で製品化された日本電気（現・NEC）の超高周波半導体素子は米国の火星探索ロケット「バイキング」をはじめ最先端の衛星に搭載され高い評価を得ました。この功績で当社は、科学技術の開発で社会に貢献する製品を創り出した研究者や企業を表彰する「第2回井上春成賞」を受賞。低価格化の壁とトレンドの変化（ポジ型化）で普及こそしませんでしたが、このようなプロジェクトで培われた技術とチャレンジ精神は着実に次世代へと受け継がれていきました。

  

  科学衛星「きく」
  提供：宇宙航空研究開発機構

  「1990年～」に続く

• 1990〜

  顧客密着戦略を支える
  グローバルな安定供給体制の確立

  1993年

  オーカアメリカ社（現TOKアメリカ社：TOKA）
  オレゴン工場を開設

  日米貿易摩擦を背景に日系半導体企業が海外に生産拠点をシフト。主要顧客の要請と海外顧客の引き合いに対応すべく米国に初の販売拠点を開設（1987）後、オレゴン州に海外初の製造工場を開設。1997年には半導体用フォトレジストの一貫工場を増設。その後に訪れた半導体不況で日系企業が撤退した後も、高品質製品の安定供給を続けて世界最大の米国半導体メーカーの信頼を獲得しました。

  1994年

  郡山工場を開設

  80年代終盤からのDRAM需要の急拡大を受けて、宇都宮・御殿場・阿蘇の三工場の新設・増設を含む増産体制をとる一方、半導体メーカー各社の地方への工場進出が活発化し、東北地区に生産拠点を設けることが不可欠と判断したため、福島県郡山市の新設工業団地に約5万坪の広大な敷地を確保し、最先端機器を備えた新工場を建設。以来、国内外向け製品の国内主力生産拠点として機能しています。

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    現在、最新設備を備えた新評価棟を建設中

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    顧客の品質要求に応えられるように、最先端設備を入れ、最適な化学薬品を提供

  1999年

  台湾東應化社（TTW）苗栗工場・銅鑼工場（2014）を開設

  成長著しい台湾での半導体やLCD(*)ビジネスに対応すべく台湾東應化社を設立（1998）後、苗栗市に工場を新設しシンナーや洗浄液(*)の製造・販売を開始。2010年代に入り、世界最大の半導体材料市場である台湾におけるプレゼンスを高めるため、銅鑼市に最先端設備を備えた洗浄液の製造工場を建設しました。※LCD：液晶ディスプレイ※洗浄液：ゴム系ネガ型フォトレジストの除去（剥離）を目的に開発された液体のこと

  

  顧客ニーズの把握と評価スピードの迅速化という顧客密着戦略を進めるべく研究開発エリアや評価実験室を併設。

  2013年

  TOK尖端材料社（TOKAM）本社・工場（仁川）を開設

  韓国における半導体産業の成長も著しく、さらなる発展が予測されていたことから、現地拠点を開設。熾烈な競争が繰り広げられる半導体市場において優位性を保つため、併せて要求レベルを満たすサンプルを可能な限り短時間で完成させることが求められたことから、本格的な最先端フォトレジストを開発する機能を備えた、当社の顧客密着戦略のモデルともなる生産拠点が誕生しました。

  

  TOKAM本社/仁川工場

  2016年

  相模事業所の「再構」をスタート

  相模工場として誕生（1967）後、研究所の移管に伴い現在の名称に。以来、一部製造工場の機能を残しつつ、TOKにおける製品および技術開発の中核を担ってきました。オープンイノベーションを通じた様々な連携の活性化こそが、TOKの進化の原動力と考える当社では、2016年より「相模再構プロジェクト」をスタート。
  単なる老朽化施設の建替え（再構築）ではなく、相模事業所を技術革新の起爆拠点になりうる最高の施設にすべく、「自由闊達」「技術のたゆまざる研鑽」「製品の高度化」「社会への貢献」の経営理念のもと、「内部・外部のオープンイノベーション加速」「将来のポートフォリオ変革」「次世代製品開発」の3つのミッションを着実に実行できる環境整備を目指す「再構」に取り掛かりました。

  

  機能検証実装を行う開発環境を整備。コミュニケーションラウンジやフリーアドレス制の開発スペースを併設

  

  ポートフォリオ変革とオープンイノベーションを促す開発目的別実験室や外部との協業を進める共同実験室を整備

  

  心地よい（Comfortable）場所で創造（Creative）、挑戦（Challenge）することを忘れずに、変化（Change）し続けることで新たな創造をめざす場所。来訪者とのコミュニケーションスペースのほか、食堂や休憩室を併設

  「100年企業に向けて」に続く

• 100年企業
  に向けて

  TOKは2040年に100年企業となります。
  これに向けて、当社グループでは
  「豊かな未来、社会の期待に化学で応える“The e-Material Global Company™”」という新たな経営ビジョンを掲げ、2030年の「ありたい姿」として、新たな成長に向け、以下の定性側面（重要課題）の実現をめざして取り組んでいくことにしました。

  • ◇顧客が感動する新しい付加価値を提供する
  • ◇世界のステークホルダーから信頼される
  • ◇高い技術力を育成し続け、グローバルで存在感を示す
  • ◇ＳＤＧｓに貢献することを意識し、企業価値を持続的に向上する
  • ◇皆が活き活きと誇りを持って働ける

  「困難で、他社が尻込みをするような技術でも、
  社会に役立つのであれば挑戦したい」
  「また、そこにこそ私たちの存在価値がある」

  ＴＯＫのエンジニア魂により、
  社会に役立つ製品の開発に挑戦し、時代ごとに必要とされる存在として、
  化学のチカラで応えてきました。

  今後、社会はスマートフォン等のモバイル端末をはじめ、
  自動車、家電、産業機器など、あらゆるモノが通信ネットワークでつながれ
  膨大な「ビッグデータ」により、新たな未来が拓かれていくかもしれません。

  その頭脳となる半導体には、これまで以上の能力が求められます。
  我々はそれに化学のチカラで応える企業として
  社会に真に役立つ「100年企業」を目指してまいります。

※文中のOMR-81、OMR-83、OFPR-2、NMD-3、TSMR-8800はTOKの出願中または登録商標です。